原子层外延法是将参与反应的元素蒸气源或化合物蒸气源依次分别导入生长室，使其交替在衬底表面淀积成膜（Atom Layer Deposition，ALD），又被称为“数字外延”，ALD是以单原子层为单位进行的外延生长。它有较高的重复性，可以由循环次数精确地知道生长厚度。
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